原创 方向错了？ASML的EUV光刻机，要走进死胡同了？

但这种NA=0.5的光刻机有个缺点，就是贵，售价高达4亿美元一台了。

所以目前才卖出5台，反正台积电称自己不感兴趣，因为太贵了， 计划再研究研究现有的EUV，将NA=0.33的EUV光刻机，尽量用到1.4nm再说，换成新的？台积电说不划算。

这对于ASML而言，是一个巨大打击，从NA=0.33到NA=0.55，ASML研发了10年，花了几上百亿美元，最后如果没人买单，研发就打了水漂了。

而在ASML的计划中，之后其实还有NA=0.75的Hpyer NA EUV光刻机的，不过据称这种光刻机，其售价可能会高达8亿美元。

可以想象的是，这种光刻机制造出来，谁敢买单？毕竟这价格，要制造多少块芯片才能回本？

所以现在业内人士认为，其实ASML的这种EUV光刻机，其实前面是无路可走了，再继续提升NA是毫无意义的，ASML的方向，不是去提高数值孔径，而是换一种另外波长更短的光刻机了，而不是死守13.5nm波长的光线了。

因为波长一变短，NA、分辨率等问题就迎刃而解了，且科学界目前正在寻找合适的 6.7nm 和 4.4nm 波长的光源，但ASML却想着基于13.5nm波长，继续提高数值孔径，没想着换一个方向研发。

当然，现在一切都只是推测，ASML是不是真方向错了，或者未来6.7nm、4.4nm波长的光刻机才是出路，只能用时间来验证了。